Mae proses mwyndoddi a gweithgynhyrchu ferrosilicon nitride yn aml yn cynnwys llawer o brosesau prosesu. Mae'r prosesau hyn yn cynnwys llawer o gynnwys. Mae'r canlynol yn gyflwyniad byr i gynnwys gweithgynhyrchu ferrosilicon nitride. Gallwch gyfeirio at y cynnwys hyn wrth fwyndoddi. .
Gan ddefnyddio aloi ferrosilicon FeSi75 fel deunydd crai, astudiwyd y mecanwaith nitridation o synthesis hylosgi fflach o ferrosilicon nitride. Mae'r canlyniadau'n dangos, yn ystod y broses nitriding, bod silicon yn cael ei ocsidio gyntaf, a bod silicon yn cael ei ocsidio i ffurfio SiO nwyol, sy'n lleihau pwysedd rhannol ocsigen y system. Pan fo gwasgedd rhannol ocsigen p (O2) Llai na neu'n hafal i 10–20MPa (T=1823K), mae Si a N2(g) yn adweithio'n uniongyrchol i ffurfio silicon nitrid, ac mae SiO2 nwyol yn adweithio yn y pen draw â N2(g) i ffurfio nitrid silicon.
Nid yw FeSi2 a Fe0.42Si2.67 mewn aloi ferrosilicon FeSi75 yn hyrwyddo ffurfio nitrid silicon, ac yn adweithio â silicon nad yw'n cymryd rhan yn yr adwaith nitridiad i ffurfio Fe3Si. Prif gamau nitrid ferrosilicon yw silicon nitrid a Fe3Si, lle mae llawer iawn o nitrid silicon colofnog. Mae Fe3Si wedi'i lapio gan golofnog Si3N4 ac mae mewn cyflwr ynysig.
